半導体微細加工向け高純度エッチングガスヘキサフルオロ-1,3-ブタジエン(C4F6)を量産化

ヘキサフルオロ-1,3-ブタジエン(C4F6)は地球温暖化係数(GWP)が非常に低く、オゾン破壊係数(ODP)がほぼ0、大気寿命も短いため、環境負荷が非常に小さい物質です。そして、シリコン酸化膜の微細加工において、既存のエッチングガスと比べてエッチングレートが早く、選択性や精度などに優れているため、現在主流のナノメートルレベル線幅の微細加工において、世界的に需要の拡大が見込まれています。


C4F6の化学構造及び微細加工のイメージ図

北京宇極科技発展有限公司は数年をかけて、様々なC4F6の合成方法を探索してきました。2015年にC4F6の量産化プロセスを中国で初めて開発し、確立しました。このプロセスは原料が安価、合成収率が高い、生成物の分離・精製が簡単という特徴で優れた製造方法です。2016年以来、北京宇極社は電子材料分野で使用される高純度ガスを戦略的事業と位置づけ、C4F6の安定した生産・供給体制を構築しています。現在、2Nと4N二種類グレードを確立し、急速に商業化を展開しています。また、3D NAND Flashの窒化膜のエッチングに使用されるガスフルオロメタン(CH3F), CF4とC4F8の可能な代替品であるトリフルオロヨードメタン(CF3I)も製造・販売しています。

ヘキサフルオロ-1,3-ブタジエンの荷姿

UniPo株式会社は日本に北京宇極科技発展有限公司の唯一代理店で積極的にヘキサフルオロ-1,3-ブタジエン(C4F6)、フルオロメタン(CH3F)、トリフルオロヨードメタン(CF3I)の販売を行っています。当社はフッ素系化合物製品のラインアップを充実させケミカル事業を拡大し、強化を図っています。

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