フォトレジストポリマー合成原料
化学式 | 和名 | 英名 | Abbr. | CAS.番号 | Spec. |
---|---|---|---|---|---|
C5H6F6O2 | 4,4,4-トリフルオロ-3-(トリフルオロメチル)-1,3-ブタンジオール | 4,4,4-Trifluoro-3-(trifluoromethyl)-1,3-butanediol | – | 21379-33-9 | Purity: 98% min; BP: 177℃ |
C4H4F6O | 1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ-2-メチル-2-プロパノール | 1,1,1,3,3,3-Hexafluoro-2-methyl-2-propanol | – | 1515-14-6 | Purity: 99% min; BP: 60-62℃ |
C6H6F6O | 1,1,1-トリフルオロ-2-(トリフルオロメチル)-4-ペンテン-2-オール | 1,1,1-Trifluoro-2-(trifluoromethyl)-4-penten-2-ol; 2-(Allyl)hexafluoroisopropanol | Allyl HFIP | 646-97-9 | Purity: 99% min; BP: 98℃ |
C6H8F6O2 | 1,1,1-トリフルオロ-2-(トリフルオロメチル)ペンタン-2,4-ジオール | 1,1,1-Trifluoro-2-(trifluoromethyl)pentane-2,4-diol | – | 34844-48-9 | Purity: 97% min; BP: 191℃ |
C11H8F6O | 1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ-2-(4-ビニールフェニル)プロパん-2-オール | 1,1,1,3,3,3-Hexafluoro-2-(4-vinylphenyl)propan-2-ol | 4-HFA-ST | 122056-08-0 | Purity: 97% min; BP: 74-75℃/3mmHg |
*以上の製品に限らず、お客様のご要望に応じて、幅広く対応しています。お気軽にお問い合わせください。