フォトレジストポリマー合成原料

化学式 和名 英名 Abbr. CAS.番号 Spec.
C5H6F6O2 4,4,4-トリフルオロ-3-(トリフルオロメチル)-1,3-ブタンジオール 4,4,4-Trifluoro-3-(trifluoromethyl)-1,3-butanediol 21379-33-9 Purity: 98% min;
BP: 177℃
C4H4F6O 1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ-2-メチル-2-プロパノール 1,1,1,3,3,3-Hexafluoro-2-methyl-2-propanol 1515-14-6 Purity: 99% min;
BP: 60-62℃
C6H6F6O 1,1,1-トリフルオロ-2-(トリフルオロメチル)-4-ペンテン-2-オール 1,1,1-Trifluoro-2-(trifluoromethyl)-4-penten-2-ol; 2-(Allyl)hexafluoroisopropanol Allyl HFIP 646-97-9 Purity: 99% min;
BP: 98℃
C6H8F6O2 1,1,1-トリフルオロ-2-(トリフルオロメチル)ペンタン-2,4-ジオール 1,1,1-Trifluoro-2-(trifluoromethyl)pentane-2,4-diol 34844-48-9 Purity: 97% min;
BP: 191℃
C11H8F6O 1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ-2-(4-ビニールフェニル)プロパん-2-オール 1,1,1,3,3,3-Hexafluoro-2-(4-vinylphenyl)propan-2-ol 4-HFA-ST 122056-08-0 Purity: 97% min;
BP: 74-75℃/3mmHg

*以上の製品に限らず、お客様のご要望に応じて、幅広く対応しています。お気軽にお問い合わせください。