エッチングレートが早く、選択度や精度などが高いという特徴で高アスペクト比の半導体エッチングプロセスに適用されます。

環境にも優しい効率的なドライエッチングガスで、エッチングレートが早く、選択度が高い、精度も高く、高アスペクト比のエッチングプロセスに適しています。

温暖化係数が低く、オゾン層破壊作用もないため、新型エッチングガスとして、低温冷媒、麻酔薬、フッ素化学製品の合成に利用されます。

HFC-134a代替品として開発され、エアコン、冷凍機などの設備の冷媒として用いられています。最近の研究では絶縁ガス分野での利用も注目されています。

HFO-1336mzz(E)はオゾン層破壊係数（ODP）が0、地球温暖化係数（GWP）が低い、無毒不燃、熱に安定性が高い、地球環境に優しい新型ODS代替品です。電力設備の絶縁・消弧ガスとして使えます。

SF6ガスの有望な代替品として、中高圧の電力機器の絶縁に使用され、特に、厳しい低温環境にも適応できます。

エッチングレートが早く、選択度や精度などが高いという特徴で半導体のフロントエンドエッチングプロセスに適用されます。

一定圧力条件下でCO2ガスと混合することにより絶縁性能はSF6ガスより優れており、電力機器での利用が期待できます。