エッチングガス—トリフルオロヨードメタン（CF3I）の紹介
CF3I（トリフルオロヨードメタン）は、低い地球温暖化係数（GWP）とオゾン層破壊のほとんどがないドライエッチングガスです。Fガス規制やPFAS規制の対象外のため、フロンやハロンの代替ガスとして使用できます。CF3Iは、低ダメージ・高選択性のエッチングや、医農薬中間体の合成にも使用されます。また、半導体フラッシュメモリチップのプロセスにも適用されています。
CF3Iは、ICP（誘導結合プラズマ）リアクターを使用した低kエッチングにも使用されています。CF3Iガスプラズマは、実用的な低kエッチング用のガス化学として高い可能性を秘めていますCF3Iは、ヨウ化トリフルオロメタンとも呼ばれ、特殊なガスとして注目されています。
以下に、CF3Iのエッチングにおける応用をいくつか紹介します。
- 高精度シリコン酸化膜エッチング:
- 問題: シリコン酸化膜のエッチングは、高精度なポリマー堆積制御が必要です。
- 解決策: CF3Iは、高濃度でGFラジカルを生成できる分子構造を持ち、高速で選択的な酸化膜エッチングを実現します。
- Low-k膜のエッチング:
- 問題: 機械的にもろいLow-k膜のエッチングには、高選択比やダメージフリーなエッチング形状が求められます。
- 解決策: CF3Iは、Fラジカルの発生が少なく、ダメージを与える紫外線強度も低いため、Low-k膜のエッチングに適しています。
- ArFレジストへの効果:
- 問題: ArFレジストはフェニル基を持たないali-cyclic化合物で構成されており、フェニル基の吸収を阻止する必要があります。
- 解決策: CF3Iを含むガスは、ArFレジストに対して効果的であり、フェニル基の吸収を低減します。
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- 高純度CF3I / Cas No. 2314-97-8 FIC-13I1 高純度トリフルオロヨードメタン
